| ชื่อสินค้า | โปรเซสเซอร์เพลต CTP |
|---|---|
| ขนาดแผ่น | 280-860 มม; 280-1100 มม; 280-1200 มม; 280-1500 มม |
| ความหนาของแผ่น | 0.15-0.4มม |
| การพัฒนาขีดความสามารถ | 46/58/70/74/78L |
| ความเร็วในการประมวลผล | ปรับความเร็วได้ (10 ถึง 60 วินาที) 400-2400 มม./นาที |
| ประเภทเครื่อง | เครื่องซีทีพี |
|---|---|
| ความไวของแผ่น | 120mj/ตร.ซม |
| ตลอดทั้ง | 25แผ่น/ชั่วโมง, 800 X 660มม., 2400dpi |
| ขนาดแผ่น | Max. สูงสุด 800mm X 660mm, Min. 800 มม. X 660 มม. นาที 270mm X 270mm< |
| การทำซ้ำ | 0.01มม |
| Classification | UV CTP Machine |
|---|---|
| Exposing Method | External drum |
| Imaging System | 64ch; 48ch; 32ch, discrete 405nm laser diode |
| Throughout(Plates/Hour) | 28; 22; 16, 1030mm x 800mm, 2400dpi |
| Resolutions | 2400dpi |
| Machine Type | CTP Machine |
|---|---|
| Imaging System (Channel) | 64CH/ 48CH/ 32CH, Discrete 830nm laser diode |
| Throughput (Plates/Hour) | 28pph/ 22pph/ 16pph, 1030mm × 800mm, 2400dpi |
| Media Type | Positive thermal CTP plate |
| Plate Thickness | 0.15mm to 0.30mm |
| Machine Type | UV-CTP plate machine |
|---|---|
| Media Type | Positive UV-CTP plate, high-sensitive PS plate |
| Imaging System | 64CH, 48CH, 32CH, Discrete 400-410nm laser diode |
| Throughput | 28pph, 22pph, 16pph, 1030mm × 800mm, 2400dpi |
| Repeatability | ± 5 μm(Continuous exposing for 4 times or above on the same plate with a temperature of 23℃ and humidity of 60%) |
| Machine Type | CTCP Machine |
|---|---|
| Imaging System | 48-Channel, 32-Channel, 24-Channel |
| Throughput(Plates/Hour) | 28, 22, 16, 800mm X 660mm, 2400dpi |
| Plate Sizes | Max. 800mm X 690mm, Min. 400mm X 300mm |
| Exposing Size | Max. 800mm X 646mm, Min. 260mm X 284mm |
| ประเภทเครื่อง | เครื่องซีทีพี |
|---|---|
| ขนาดจาน | Max. สูงสุด 800mm X 660mm, Min. 800 มม. X 660 มม. นาที 400mm X 300mm< |
| ปณิธาน | 2400dpi |
| ระบบภาพ | 48 ช่อง; 32 ช่อง; 24 ช่อง |
| ปริมาณงาน (แผ่น/ชั่วโมง) | 28; 28; 22; 22; 16, 800mm X 690mm, 2400dpi 16, 800มม. X 690มม. |
| ประเภทเครื่อง | เครื่องซีทีซีพี |
|---|---|
| ระบบภาพ | 128 แชนเนล เลเซอร์ไดโอดแยก 400-410 นาโนเมตร |
| ปริมาณงาน | 45PPH, 1030 มม. x 800 มม., 2400dpi |
| ขนาดจาน | Max. สูงสุด 1163mm X 940mm, Min. 1163 มม. X 940 มม. นาที 300mm X 400m |
| ประเภทสื่อ | เพลต UV-CTP บวก, เพลต PS ความไวสูง |
| ประเภทเครื่อง | เครื่อง UV-CTP |
|---|---|
| ขนาดจาน | Max. สูงสุด 1680mm x 1350mm; 1680 มม. x 1350 มม.; Min. นาที. |
| ปณิธาน | 2400dpi |
| ระบบภาพ | 128 แชนเนล, เลเซอร์ไดโอดแยก 400-410 นาโนเมตร |
| ปริมาณงาน | 22 แผ่น/ชั่วโมง, 1630mm x 1325mm/ 2400dpi |
| การจำแนกประเภท | เครื่องซีทีพี |
|---|---|
| ขนาดแผ่น | Max. สูงสุด 1680mm x 1350mm; 1680 มม. x 1350 มม.; Min. นาที. |
| ความหนาของแผ่น | 0.15 มม. ถึง 0.30 มม. หรือ 0.27 มม. ถึง 0.40 มม. (ทางเลือกอื่น) |
| ระบบภาพ | 64 แชนเนล, เลเซอร์ไดโอด 830 นาโนเมตรแบบแยกส่วน |
| ความเร็วเอาต์พุต | 14 แผ่นต่อชั่วโมง 1630mm x 1325mm / 2400dpi |
